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固态电解质高能球磨建议对照表

电解质类型	推荐目标粒径	推荐球磨机	典型球料比（BPR）	推荐球径组合（mm）	气氛环境	注意事项
硫化物（如LGPS、Li₆PS₅CI）	20-80nm	PULVERIZER 80	10:1~20:1	2/5/10（混合）	惰性气氛（Ar）	要求非常细以提高离子导率，注意潮气/氧敏感、避免热升高导致相变或失硫
卤化物（如Li₃InCI₆）	30-150nm	PULVERIZER 80 or HSVM Ball Mill	8:1~15:1	2/5（混合）	干燥惰性气氛（Ar）	细粉可提高界面性，但要防止吸湿和团聚
氧化物（如LLZO、LAGP、LATP）	100-500nm	PULVERIZER 80 or PULVERIZER 500	5:1~10:1	5/10/15（偏大）	常温空气或惰性（视材料）	过细会影响烧结行为和晶粒生长，建议不要追求过细
硫酸盐/其他复杂氧化物	50-300nm	PULVERIZER 80	5:1~12:1	2/5/10	视耐空气性而定	根据后续烧结/热处理调整粒径目标

实用操作建议

1. 气氛与水分控制：硫化物和某些卤化物对水/氧非常敏感。球磨、装料和取样应在手套箱/惰性气氛下进行，球罐预干燥。

2. 防止团聚/冷焊：对易冷焊的金属或硫化物可加入少量助磨剂（例如少量异丙醇做湿法）或短时间多批次球磨，避免长时间连续高温。湿法后必须彻底干燥并在惰性气氛下处理。

3. 监测粒径与相：定期取样做粒度测试（激光粒度或DLS/SEM），并用XRD观察结晶性/相变。粒径达到目标后立即停止球磨，避免过磨破坏相。

4. 球材质选择：避免杂质污染——常用材质：氧化锆（ZrO₂）/球（视成本与污染容忍度），不推荐铁或普通钢用于要求高纯度的体系。

5. 典型转速与时间（参考值，须按设备与样品调整）：

• 高能行星球磨：转速300–1200rpm，分次球磨（例如每批10–30min，间隔冷却），总有效时间从几十分钟到数小时不等以达到nm级。

• 低速/振动球磨：用于较粗粒或避免过热。

6. 球径搭配：混合小球+中球（如2mm+5mm）可以兼顾细碎效率与研磨均匀性。

7. BPR（球/料比）：提高 BPR 可加速细化，但会加剧磨损与升温；一般先用10:1试验，再根据结果调整到15-20:1（若需更细）。

8. 后处理：球磨后若用于烧结/烧结合成，粒径分布均匀、低团聚能提高致密化；氧化物体系通常需要更高温烧结以获得致密氧化物骨架。

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